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等離子清洗機(jī)因其高效的表面處理能力而廣受歡迎，在眾多行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)發(fā)揮著關(guān)鍵作用。這種設(shè)備利用等離子體技術(shù)，能夠去除材料表面的有機(jī)污染物，改善粘接、涂裝和印刷工藝的...
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等離子去膠機(jī)是應(yīng)用等離子技術(shù)進(jìn)行表面處理的設(shè)備，具有高效、環(huán)保等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于汽車制造、電子設(shè)備維修以及半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。在這種技術(shù)的幫助下，材料表面的清潔、改性或涂層去除等工序得以精準(zhǔn)且高效地完成。1.工作原理：等離子去膠機(jī)主要通過(guò)產(chǎn)生等離子體，即電離狀態(tài)的氣體，其中帶電的粒子在電場(chǎng)的作用下高速運(yùn)動(dòng)，對(duì)目標(biāo)材料表面進(jìn)行轟擊。這種高速轟擊可以去除表面分子，實(shí)現(xiàn)清潔或表面改性的效果。在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，等離子體技術(shù)被用于刻蝕工藝，其中的離子對(duì)被刻蝕的表面進(jìn)行撞擊，形成損傷層...
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等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；
圖為PLUTO-M對(duì)線路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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